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  • GMD2000/4氧化鋯漿料超高速剪切分散機(jī)
    GMD2000/4氧化鋯漿料超高速剪切分散機(jī)

    氧化鋯漿料超高速剪切分散機(jī)的定轉(zhuǎn)子間隙一般為0.2-0.3mm,而普通乳化機(jī)一般為0.5-0.7mm,SGN定轉(zhuǎn)子更加精密,對于物料的細(xì)化效果更好。另外,SGN乳化機(jī)配置三組定轉(zhuǎn)子,物料通過工作腔體,相當(dāng)于被剪切處理了3遍,乳化分散均質(zhì)更*。

    更新日期:2024-11-18型號:GMD2000/4
  • GRS2000超高速分散機(jī)
    GRS2000超高速分散機(jī)

    超高速分散機(jī)的高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是Z重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,思峻公司在GRS2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出GRX2000超高速剪切乳化機(jī)機(jī)。其剪切速率可以超過200.00 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到66m/s。

    更新日期:2024-11-18型號:GRS2000
  • GMD2000鈦酸鋰高速分散機(jī)
    GMD2000鈦酸鋰高速分散機(jī)

    SGN鈦酸鋰高速分散機(jī)采用膠體磨與分散乳化機(jī)(GMO+8SF)相結(jié)合的結(jié)構(gòu),在Z高轉(zhuǎn)速14000轉(zhuǎn)的高轉(zhuǎn)速下可以使用設(shè)備定轉(zhuǎn)子的線速度達(dá)到44m/s,甚至更高。在44m/s的高線速度剪切力下可以使鈦酸鋰等鋰電池漿料里的粒徑被處理的足夠細(xì),在涂布過程中無顆粒劃痕,這樣使導(dǎo)電效果更好、更強(qiáng)大!

    更新日期:2024-11-18型號:GMD2000
  • GMD2000超高速納米氧化鋅研磨分散機(jī)
    GMD2000超高速納米氧化鋅研磨分散機(jī)

    納米氧化鋅的分散難點(diǎn):納米氧化鋅分散到水中或者溶劑當(dāng)中,容易出現(xiàn)抱團(tuán)的現(xiàn)象,導(dǎo)致物料粒徑變大,分散效果不佳,產(chǎn)品改性不充分。 如果使用普通的分散設(shè)備,很難將納米氧化鋅分散均勻,會出現(xiàn)團(tuán)聚的現(xiàn)象,團(tuán)聚體難以打開,而如果采用SGN研發(fā)的分散設(shè)備,研磨分散機(jī)的話,先研磨后分散機(jī),解決團(tuán)聚問題,可達(dá)納米氧化鋅還原至納米級。

    更新日期:2024-11-18型號:GMD2000
  • GRS200014000轉(zhuǎn)分散機(jī)
    GRS200014000轉(zhuǎn)分散機(jī)

    14000轉(zhuǎn)分散機(jī)的高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是Z重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,思峻公司在GRS2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出GRX2000超高速剪切乳化機(jī)機(jī)。其剪切速率可以超過200.00 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到66m/s。

    更新日期:2024-11-18型號:GRS2000
  • GRS2000超高速易清洗分散機(jī)
    GRS2000超高速易清洗分散機(jī)

    SGN超高速易清洗分散機(jī)除了易清洗這個(gè)特點(diǎn)還有許多其他的優(yōu)勢: 一、采用分體式結(jié)構(gòu),轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm,線速度為41m/s,是普通分散機(jī)的4-5倍。 二、采用三級結(jié)構(gòu),定轉(zhuǎn)子有5種不同規(guī)格乳化分散盤,由粗到細(xì),2P/2G/4F/6F/8SF,可根據(jù)想要的效果來選擇。 三、采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封,并配有機(jī)封冷卻系統(tǒng),在保證冷卻水的情況下,可24運(yùn)行。 四、小試設(shè)備和中試設(shè)備,線速度*

    更新日期:2024-11-18型號:GRS2000
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