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產(chǎn)品型號: GMD2000
所屬分類:高速膠體磨
更新時間:2024-11-20
簡要描述:GMD2000改性型白炭黑高速膠體磨有一定輸送能力,對高固含量有一定粘稠度物料,GM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼。
一、產(chǎn)品名稱
改性型白炭黑高速膠體磨,改性白炭黑剪切膠體磨,白炭黑高速膠體磨,立體式改性型膠體磨,不銹鋼改性高速膠體磨
二、什么是改進型膠體磨呢?
改進型膠體磨是上海思峻研發(fā)的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。是將上海思峻膠體磨進行進一步的改良,在原來GM2000系列研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。的基礎(chǔ)上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤。
三、改性白炭黑油是什么呢?
改性白炭黑就是對白炭黑的改性
白炭黑改性 白炭黑的表面改性是利用一定的化學(xué)物質(zhì)通過一定的工藝方法使白炭黑的表面烴基與化學(xué)物質(zhì)發(fā)生反應(yīng),消除或減少其表面活性硅醇基的量,已達到改變表面性質(zhì)的目的。
其一,將干燥的白炭黑與改性劑及一種有機溶劑(苯,甲苯等)組成的溶液加熱煮沸,回流反應(yīng),然后分離、干燥。該法的主要特點是工藝簡單,產(chǎn)品質(zhì)量容易控制,改性劑耗量小。缺點是其產(chǎn)品后處理過程復(fù)雜,且造成有機溶劑污染,較難實現(xiàn)規(guī)?;I(yè)生產(chǎn)。
其二,將干燥的白炭黑或洗滌后的沉淀白炭黑濾餅配制成水溶液漿料,加入水溶性有機溶劑如醇類或表面活性劑等,然后加入改性劑進行有機硅烷反應(yīng);再合成沉淀反應(yīng)完成后的懸浮液中加入改性劑。該法的主要特點是工藝簡單,補助設(shè)備少,可以對沉淀白炭黑尤其是沉淀白炭黑的半成品進行改性,有利于降低成本。例如,在硅酸鈉和硫酸沉淀反應(yīng)后的懸濁液中加入醋乳濁液
四、高速膠體磨的工藝
GMD2000改性型白炭黑高速膠體磨為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。
GMD2000有一定輸送能力,對高固含量有一定粘稠度物料,GM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計,可通冷卻或者升溫介質(zhì)。
GMD2000系列改進型膠體磨的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
五、改進型膠體磨的特點:
1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
4、 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
(價格電議:葛 公司有樣機可供客戶實驗?。?/span>
六、設(shè)備核心參數(shù):
設(shè)備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式:普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件: PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
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GMD2000系列選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%.