微膠囊研磨均質機

產品型號： GMD2000

所屬分類：研磨均質機

更新時間：2024-11-19

簡要描述：微膠囊研磨均質機由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

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噴干法是zui常用和成本zui低廉的微膠囊化方法。該法微膠囊造粒的原理是：首先制備乳化分散相，即把心材分散在已液化的壁囊材中混合形成溶液，后加入乳化劑，熱分散體系經均質變成水包油型乳狀液，zui后進行噴霧干燥即可。

噴霧干燥法的工藝流程如下所示：
囊 材和囊心物質→混合→均質、乳化→乳化液→在熱空氣中霧化和干燥→脫水→得微膠囊產品
 
噴霧干燥的過程主要包括4個部分：預處理及乳化部分、均質部分、噴霧干燥。
預處理過程主要是將芯料，如香科、油脂等，與壁材溶液混合(壁材一般是食品級的膠類，如明膠、植物膠、變性淀粉、糊精、或非膠類蛋白質)，然后加入乳化劑，經高剪切乳化機或膠體磨均質后形成水包油的乳化必溶液，此溶液由泵送人噴霧干燥室，溶液經霧化后形成微小的球狀顆粒，顆粒的外壁為水溶性物料，這就說明了噴霧干燥的產品都是水溶性的。盡管噴霧干燥的過程處中高溫，但在造粒過程中外層水分快速蒸發(fā)時，芯材的溫度可保持在100℃以下，物料受熱時間一般為幾秒鐘。這種方法的優(yōu)點是能處理許多熱不穩(wěn)定的物料、但由于有些物料、如香精，可能會有20～30種不同的成分(酒精、乙醛、脂類、酮類)其蒸發(fā)溫度在38℃～180℃，而低蒸發(fā)點的芳香物質在干燥過程中就有可能損失。

制備微膠囊的典型工藝就如上所示：
配料——乳化——均質——噴霧干燥。

GMD2000模塊主要由兩層分散頭構成，工作時，物料通過投料口進入分散腔，首先到達層分散頭進行處理，由于馬達帶動轉子齒列高速運轉，產生渦流和離心力效應使得物料軸向吸入分散頭，然后沿著定-轉子之間的縫隙被高速壓出完成次剪切作用，之后在轉子齒列與定子齒列的強力剪切間隙中物料被強烈撕裂后從定子齒列縫隙中流出時完成第二次剪切，接著流出的物料進入第二層分散頭腔體，對處理過的物料再次進行剪切（原理同上），從而確?；旌戏稚@得很窄的粒徑分布，獲得更小的液滴和顆粒，生成的混合液穩(wěn)定性更好，滿足疫苗生產對于粒徑的要求。

GMD2000系列研磨分散機的結構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

GMD2000微膠囊研磨均質機為立式分體結構,有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料，GM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質。

的特點：

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

2、 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

4、 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

5、 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

設備其它參數(shù):

設備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理