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  • GRS 2000/4聚酰亞胺分散機價格
    GRS 2000/4聚酰亞胺分散機價格

    聚酰亞胺分散機價格是高剪切均質分散機是高效、快速、均勻地將一個相或多個相固體進入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的過程的設備的設備。當其中一種或者多種材料的細度達到微米數(shù)量級時,甚至納米級時,體系可被認為均質。

    更新日期:2024-11-19型號:GRS 2000/4
  • GMD2000硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機價格
    GMD2000硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機價格

    GMD2000硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機價格系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

    更新日期:2024-11-19型號:GMD2000
  • GRX 2000/4納米氧化鈰分散機價格
    GRX 2000/4納米氧化鈰分散機價格

    納米氧化鈰分散機價格 ,高的轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,思峻公司在GRS2000系列的基礎上又開發(fā)出GRX2000超高速剪切乳化機機。其剪切速率可以超過200.00 rpm,轉子的速度可以達到66m/s。

    更新日期:2024-11-19型號:GRX 2000/4
  • GMSD2000頭孢噻呋高剪切研磨分散機價格
    GMSD2000頭孢噻呋高剪切研磨分散機價格

    頭孢噻呋高剪切研磨分散機價格,一般采用研磨混合法研制頭孢噻呋混懸液,并一般采用高品質的研磨混合設備,因為混懸液的粒徑會影響產(chǎn)品的穩(wěn)定性以及藥性。采用GMSD2000系列研磨分散機進行頭孢噻呋混懸液的研磨混合分散,一般粒徑可達DN90≤5μm,產(chǎn)品均勻度更高。并且GMSD2000系列更環(huán)節(jié)都帶有夾套,處理過程中可對物料進行溫度控制;清洗方便,符合在線清洗和滅菌。

    更新日期:2024-11-19型號:GMSD2000
  • GMSD2000*的頭孢噻呋膠體磨研磨分散設備
    GMSD2000*的頭孢噻呋膠體磨研磨分散設備

    *的頭孢噻呋膠體磨研磨分散設備,頭孢噻呋注射液研磨分散機 是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。 *級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。 第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同。

    更新日期:2024-11-19型號:GMSD2000
  • GRS2000有機硅樹脂分散機價格
    GRS2000有機硅樹脂分散機價格

    有機硅樹脂分散機價格:*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。

    更新日期:2024-11-19型號:GRS2000
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